氮氣烤箱（氮氣保護烤箱）是一種在惰性氣體（氮氣）環(huán)境下進(jìn)行加熱或干燥處理的設備，主要用于防止材料氧化、揮發(fā)或發(fā)生化學(xué)反應。其核心原理是通過(guò)氮氣置換氧氣，創(chuàng )造低氧或無(wú)氧環(huán)境，從而保證工藝穩定性。

1.基本組成結構

氮氣烤箱主要由以下部分構成：

加熱系統：電加熱管、紅外加熱或熱風(fēng)循環(huán)裝置。

氮氣供應系統：氮氣瓶/制氮機+流量控制閥。

密封腔體：不銹鋼材質(zhì)，確保氣密性。

排氣系統：排出殘余氧氣和揮發(fā)性氣體。

控制系統：溫度、氮氣濃度、壓力等參數調節。

2.工作原理

（1）氧氣置換（氮氣填充）

通過(guò)氮氣進(jìn)氣閥向箱體內充入高純度氮氣（通常≥99.9%）。

利用正壓置換法或真空置換法排出氧氣：

正壓置換：持續通入氮氣，使氧氣從排氣口排出。

真空置換：先抽真空，再充入氮氣，效率更高（適用于高要求場(chǎng)景）。

氧含量檢測：部分高端設備配備氧分析儀（O?傳感器），確保氧含量<100ppm（0.01%）。

（2）加熱過(guò)程

在氮氣環(huán)境下進(jìn)行加熱，避免材料氧化、燃燒或揮發(fā)。

適用于：

高溫無(wú)氧燒結（如金屬粉末、陶瓷）。

易氧化材料烘干（如鋰電池極片、電子漿料）。

有機物固化（如PCB油墨、膠黏劑）。

（3）廢氣處理（可選）

揮發(fā)性氣體（如溶劑蒸汽）可通過(guò)尾氣處理裝置（活性炭吸附/燃燒法）凈化后排放。

3.主要應用領(lǐng)域

4.氮氣烤箱vs.普通烤箱

5.選型關(guān)鍵參數

氮氣純度：≥99.9%（電子行業(yè)可能需99.999%）。

氧含量控制：<100ppm（高要求場(chǎng)景需<10ppm）。

溫度范圍：常溫~300℃（常規）、最高可達1200℃（特殊燒結爐）。

密封性：正壓保持能力（如0.1~0.5MPa）。

安全防護：防爆設計、氧含量超標報警。

總結

氮氣烤箱通過(guò)氮氣置換氧氣+精準溫控，為易氧化、易燃或高純度材料提供安全穩定的熱處理環(huán)境，廣泛應用于新能源、電子、化工等領(lǐng)域。如需更詳細的技術(shù)方案（如真空氮氣烤箱），可進(jìn)一步探討！